Physical vapor deposition (PVD)
گاهی اوقات (به ویژه در زمینه های رشد تک کریستالی) که انتقال بخار فیزیکی (PVD) نامیده می شود، انواع روش های رسوب در خلاء را توصیف می کند که می تواند برای تولید لایه ها و پوشش های نازک استفاده شود. PVD با فرآیندی مشخص می شود که در آن مواد از فاز متراکم به فاز بخار و سپس به فاز متراکم لایه نازک برمی گردند. رایج ترین فرآیندهای PVD، کندوپاش و تبخیر هستند. PVD در ساخت اقلامی استفاده می شود که به لایه های نازک برای عملکردهای مکانیکی، نوری، شیمیایی یا الکترونیکی نیاز دارند. به عنوان مثال می توان به دستگاه های نیمه هادی مانند صفحات خورشیدی فیلم نازک، [1] فیلم PET آلومینیومی برای بسته بندی مواد غذایی و بالون ها، [2] و ابزارهای برش با پوشش نیترید تیتانیوم برای فلزکاری اشاره کرد. علاوه بر ابزارهای PVD برای ساخت، ابزارهای کوچکتر ویژه (عمدتاً برای اهداف علمی) توسعه یافته است.[3]
مواد منبع به طور اجتناب ناپذیری نیز در بیشتر سطوح دیگر در داخل محفظه خلاء، از جمله اتصالات مورد استفاده برای نگه داشتن قطعات، رسوب می کنند.
